工業EDI超純水設備概述

工業EDI超純水設備產水用于半導體材料、器件、印刷電路板、集成電路、封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、超大規模集成電路等。集成電路的集成度越高對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子行業水質分為五個標準，分別為1MΩ.cm、5MΩ.cm、10MΩ.cm、16MΩ.cm、18MΩ.cm，以區分不同水質。

工業EDI超純水設備工藝流程

電子行業制備超純水的工藝大致分成以下幾種

       1、采用離子交換樹脂制備超純水的其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水泵→多介質過濾器→保安過濾器→陽床→陰床(復床)→混床→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

       2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水泵→多介質過濾器→保安過濾器→高壓泵→反滲透設備→RO水箱→混床泵→混床→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

3、采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水泵→多介質過濾器→精密過濾器→高壓泵→反滲透設備→RO水箱→(EDI)泵→保安過濾器→紫外線→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

工業EDI超純水設備應用

       1、制藥行業、微電子行業、發電工業以及實驗室。

       2、在表面清洗、表面涂裝、電解工業和化工工業的應用也非常廣泛。

       3、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路行業。

       4、超純材料及超純化學試劑。

       5、實驗室及中試車間用水。

       6、汽車、家電表面的拋光處理。

       7、光電產品。

8、其他高科技產品。

工業EDI超純水設備特點

       工業EDI超純水設備不需要化學再生，可連續運行，進而不需要傳統水處理工藝的混合離子交換設備再生所需的酸堿液以及再生所排放的廢水。其主要特點如下：

       連續運行，產品水水質穩定。

       具有全自動控制功能。

無須用酸堿再生。

不需要停機再生。

節省了再生用水和再生污水處理設施。

產水率高(可達95%)。

無須酸堿儲備以及酸堿稀釋運送設施。

占地面積小。

使用安全可靠，避免了工人接觸酸堿。

       降低運行以及維護成本。

       設備單元模塊化，可靈活的組合各種凈水設施。

       安裝簡單、費用低廉。

設備初投資大。

工業EDI超純水設備屬于精處理設備，具有連續產水、水質高、易控制、占地少、不需酸堿、利于環保等優點。隨著設備改進與技術完善以及針對不同行業進行優化，初投費用會大大降低?？梢韵嘈旁诓痪玫膶頃耆〈鷤鹘y的水處理工藝中的混合離子交換系統。EDI技術大多用于制藥行業、微電子行業、發電工業及實驗室。在表面清洗、表面涂裝、電解工業和化工工業的應用也非常廣泛。更多相關水處理設備的資料，請登錄新鄉天宇水處理官網：http://www.recursosdeenologia.com/